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파장은 빛의 특성을 결정하는 주요 요소 중 하나입니다. 빛의 파장은 색상을 결정하며, 각기 다른 파장의 빛은 다른 성질을 가집니다.

보이는 빛의 파장은 대략 400나노미터(nm)에서 700나노미터 사이입니다. 파장이 짧을수록 빛의 에너지는 높아집니다. 파란색 빛은 붉은색 빛보다 더 짧은 파장을 가지므로 더 많은 에너지를 가지고 있습니다.

EUV(Extreme Ultraviolet)는 매우 짧은 파장(약 13.5nm)을 가지므로 매우 높은 에너지를 가지고 있습니다. 이러한 높은 에너지는 반도체 제조 과정에서 작은 특징을 정확하게 새기는 데 사용됩니다.

다른 자외선(UV)과 비교했을 때, EUV는 더 짧은 파장을 가지므로 더 세밀한 패턴을 만들 수 있습니다. 일반적으로 더 짧은 파장의 빛은 더 작은 구조를 만드는 데 사용될 수 있으므로, EUV는 반도체의 기능성을 향상시키고 크기를 줄이는 데 효과적입니다.

그러나 EUV는 더 많은 기술적 도전과제를 가지고 있습니다. EUV 빛은 공기에서 금방 흡수되므로, EUV 리소그래피 과정은 고비용의 진공 환경에서 이루어져야 합니다. 또한, EUV 빛을 만드는 소스와 이를 처리하는 기술은 매우 복잡하고 비용이 많이 듭니다. 이러한 이유로, EUV는 아직 특정 반도체 제조 공정에서만 사용되고 있습니다.

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