High-NA EUV 기술: 차세대 반도체 제조의 핵심
High-NA EUV 기술: 차세대 반도체 제조의 핵심 반도체 산업의 차세대 리소그래피 기술 High-NA EUV(극자외선) 리소그래피는 반도체 제조 기술의 최전선에 있는 혁신적인 기술입니다. 이 기술은 NA(수치 조리개)를 0.33에서 0.55로 증가시켜 더 미세한 반도체 패턴을 형성할 수 있게 합니다. 이를 통해 반도체 제조의 집적도를 크게 향상시키고, 2nm 이하의 초미세 공정을 가능하게 합니다. High-NA EUV 기술은 반도체 산업의 미래를 열어갈 중요한 기술로 주목받고 있습니다. 기술적 특징과 장점 High-NA EUV 기술은 몇 가지 중요한 기술적 발전을 통해 반도체 패턴 형성을 크게 개선합니다: 1.해상도 향상: NA를 0.33에서 0.55로 증가시켜 더 미세한 패턴 형성이 가능해집니다...
반도체 & 환경안전
2024. 7. 30. 08:28